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    三价铬稳定剂

    三价铬稳定剂

     详情说明
    一、特点: 1、三价铬镀铬系统是发展用来取代传统六价铬,减少环境污染。 2、三价铬镀铬可容许电流中断而镀层不会变灰,相对六价铬而言。 3、三价铬镀铬在走位、均镀性及承受大电流等性能更加优良。 4、三价铬镀铬采用德国进口石墨阳极,工艺稳定,容易维护。 二、镀液组成及操作条件 原料成分 范围 HY-2001导电盐 300-320克/升 HY-2002铬盐 100-130克/升 三价铬含量 20-24克/升 HY-2003催化剂(稳定剂) 60-80毫升/升 HY-2004湿润剂 2-4毫升/升 HY-2005络合剂 1-3毫升/升 操作条件 最佳范围 PH 2.5-3.0 温度 30-40℃ 阴极电流密度 10-22安培/平方分米 阳极电流密度 2-5安培/平方分米 比重 24-28 阳极/阴极比例 1.5/2.0:1 搅拌 温和打气 过滤 用1-2um滤芯连续过滤 沉积率 0.5-0.25微米/分钟 三、设备要求 1、镀槽:采用全新的PVC、ABS或聚乙烯衬槽。 2、阳极:采用德国进口石墨阳极装上纯钛钩。必须要有足够的阳极面积来达至5安培/平方分米(阳极效率),阳极面积过小会产生刺鼻的氯气。铜条须镀镍后用PVC覆盖,石墨阳极顶部必须比液面低出4英寸左右,底部位置也不宜过长,应短于工件最低位置1-2英寸最佳。 3、发热器/冷却器:可用石英或纯钛发热笔,冷却器必须用纯钛及置于阳极底部以防止在电镀期间产生双极性。 4、整流器:9-15伏,带安培小进累积计。 5、使用中等程度的空气搅拌。打气管安装在阴极底部,空气均匀分布。 四、镀液配制 1、50%清水加温至60-80℃。加入HY-2001导电盐,搅拌至完全溶解。 2、加入HY-2002铬盐搅拌至完全溶解。 3、加入HY-2003催化剂搅拌均匀。再加入HY-2004湿润剂搅拌均匀。 4、加入HY-2005络合剂搅拌均匀,加水至镀槽体积。 5、经完全搅拌后,用盐酸调整PH到工艺(调高用氨水)。 6、在工作温度下,以2-3安培/平方分米的电流密度电解60分钟后可以试镀。 五、工艺条件控制 1、电流密度:阴极电流密度尽量低至可生产合格之镀层。增加电流密度虽然可加强走位能力,但会令阴极效率下降。电流大小与沉积速度没有多大关系。沉积厚度主要由时间决定。 2、PH値:PH値会直接影响沉积效率及低电区走位。低PH値的沉积效率高但走位不好;高PH値的沉积效率低但走位加强。PH过高会产生黑色镀层。用盐酸或氨水调PH,每加入2毫升/升盐酸或氨水能使镀液PH値降低或提高0.1。 一般而言,最精准的PH値是在调整后2-3小时出现。 3、温度:温度过低镀液会有沉淀。温度过高会令走位不良及镀层颜色变深。 六、添加剂的功能及消耗量和补充 1、HY-2001导电盐用于维持镀液的比重。当比重下降时需添加导电盐一提高比重。每添加25克/升约可提升比重1度。导电盐溶解度较低,加入时要缓慢加入。应避免一次过量加入(大于25克/升),否则镀液会失去平衡,加入时升温到60℃完全溶解后降温到工艺范围电解30-60分钟方可生产。假如浓度过高时,会出现结晶,使阳极钝化或打气管堵塞,太低会影响导电。 2、HY-2002铬盐金属补充盐的。消耗量约为500-600克/千安培小时。每添加10克/升可提高金属铬1克/升。由于它的溶解度比较低,加入时须缓慢加入。 3、HY-2003催化剂的主要功能是令三价铬上镀。消耗量约为1000-1800毫升/千安培小时。浓度过高时影响走位,可能导致铬盐沉淀,浓度过低会产生黑色条纹及电流范围变窄。 4、HY-2004湿润剂可以帮助镀层的平均度及防止镀液产生气味析出,可以去除镀层上的黑色条纹使其光亮。湿润剂浓度过低时中电区沉积速度会下降,可能会产生烟熏状镀层,过量时没有大的影响,但超过8毫升/升时镀层会起白雾。湿润剂的消耗量约为80-100毫升/千安培小时。 5、HY-2005络合剂的主要功能是扩阔电流范围,只用于开缸,一般情况下不需要添加。 注:在生产操作时,建议填写记录表,并按千安培小时消耗量配合赫尔槽实验或实验分析进行补充,才可获得良好的电镀效果。 七、镀液维护 在生产过程中,各添加剂会消耗于电镀及带出。要使镀液维持在最佳状态,各添加剂应按安培小时消耗配合赫尔槽实验或实验分析进行补充。尤其补充金属铬盐,催化剂及湿润剂应4-5安培/小时/公升补充一次。 八、金属污染 三价铬镀液是非常受金属杂质污染影响。所以镀镍后水洗要彻底,避免镍水带进三价铬镀槽,如有工件掉进镀槽应立即捞出。阳极铜棒应用PVC覆盖好,清除金属杂质可用低电流(3安培/平方分米)电解,阴极使用已镀半光镍的波纹钢板,最佳方法是使用离子交换对脂来吸附金属杂质。 九、金属杂质及有机物的影响及控制 1、六价铬(上限<1PPM﹚ 来源:使用六价铬镀铬的镀槽没有洗干净,或外界带入。 问题:阴极效率会大幅下降,可用0.1-0.2毫升/升的双氧水除去,但双氧水会严重影响镀液性能,所以要绝对避免六价铬的污染。 2、金属铅杂质(上限<10PPM﹚ 来源:使用六价铬的镀槽没有洗干净。 问题:严重影响高区,甚至高区不能上镀。低区产生白班,可用低电解除去。 3、金属镍杂质(上限<100PPM) 来源:镍镀液带入或工件及挂具带入。 问题:中低区镀层呈棕黑色,可用低电解除去,或加入降杂剂过滤。 4、金属锌杂质(上限<20ppm) 来源:锌铁合金工件掉入或锌铁合金工件复杂低电区没有镀上铜镍。 问题:使镀液覆盖能力下降,少量时会使低电区白色污迹,过多时中电区出现白色污迹,可用低电解除去?;蚣尤氤蛹凉?。 5、金属铜杂质(上限<10ppm) 来源:导电铜棒没有用防水塑料包扎好,或铜工件掉入。 问题:少量会使高电区灰暗,多时低电区也会灰暗,甚至整个电流区发黑,可用低电解除去?;蚣尤氤蛹凉?。 6、金属铁杂质(上限<100ppm) 来源:工件掉入或使用波浪状铁板电解,铁板没有预先镀镍。 问题:挂具镀层颜色变深,影响走位及增加镀层的内应力。只能在生产过程自然减少及用离子交换树脂除去。 7、有机物污染 有机物污染的影响比较少,一般影响到镀层的光亮度及清澈度。严重污染时高电区会烧。有机污染可用活性炭处理,但同时会除去部分的添加剂,尤其是湿润剂。用活性炭处理后再根据需要适量补充。 九、镀液出现沉淀处理程序 由于下列情况,三价铬镀液可能会出现沉淀现象: 1、催化剂含量过多(>90毫升/升)或补充催化剂时太快; 2、PH値过高(>3.0) 3、3、导电盐含量过高(比重>1.26)或补充导电盐时太快。 当镀液出现沉淀时,可用以下方法处理: 1、调整镀液的PH値到2.3-2.5 2、提高镀液温度到60-66℃后将镀液过滤 3、再调整镀液的PH値到2.5-2.7,将温度调整到30-35℃ 4、分析镀液各主要成分,并调整到操作范围即可。
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